Los recubrimientos UV a base de agua se pueden reticular y curar rápidamente bajo la acción de fotoiniciadores y luz ultravioleta. La mayor ventaja de las resinas a base de agua es que la viscosidad es controlable, limpia, respetuosa con el medio ambiente, ahorra energía y es eficiente, y la estructura química del prepolímero se puede diseñar según las necesidades reales. Sin embargo, este sistema aún tiene deficiencias, como la necesidad de mejorar la estabilidad a largo plazo del sistema de dispersión acuosa del recubrimiento y la absorción de agua de la película curada. Algunos investigadores han señalado que la futura tecnología de fotocurado a base de agua se desarrollará en los siguientes aspectos.
(1) Preparación de nuevos oligómeros: incluyendo baja viscosidad, alta actividad, alto contenido de sólidos, multifuncionalidad e hiperramificación.
(2) Desarrollar nuevos diluyentes reactivos: incluyendo nuevos diluyentes reactivos de acrilato, con alta tasa de conversión, alta reactividad y baja contracción de volumen.
(3) Investigación sobre nuevos sistemas de curado: Para superar los defectos de curado incompleto a veces causados por la penetración limitada de la luz UV, se utilizan sistemas de curado duales, como fotocurado por radicales libres/fotocurado catiónico, fotocurado por radicales libres, curado térmico, fotocurado por radicales libres y fotocurado por radicales libres. Basándose en el fotocurado/curado anaeróbico, fotocurado por radicales libres/curado por humedad, fotocurado por radicales libres/curado redox, etc., se puede aprovechar al máximo el efecto sinérgico de ambos, lo que promueve el desarrollo del campo de aplicación de los materiales fotocurables a base de agua.
Fecha de publicación: 25 de julio de 2025
